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IAD:Ion Assisted Deposition(イオンアシスト蒸着)とは、蒸着中にイオン銃でイオン化したガス粒子を基材に照射することで蒸着材料分子を基材へ押し付け、膜質を良くする成膜手法。特徴として、大きく①膜質が良い、②密着性が良い、③精度の高い成膜の3つがあります。

IAD
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